800 нм высокодисперсионное сверхбыстрое зеркало
Отражение при 780 - 830 нм > 99,8% (P - поляризация)
Задержка дисперсии группы при 5°AOI составляет - 1300fs2
Сжатие импульсов для сверхбыстрых лазеров Ti: Sapphire
Сверхбыстрое покрытие
800 нм высокодисперсионные сверхбыстрые зеркала с оптимизированным многослойным покрытием, основанным на интерференции цветового рассеяния,С низкой групповой задержкойХарактеристики дисперсии (GDD) и высокой альбедо. При проектном углу падения 5° (AOI) GDD этих зеркал составляет - 1300 fs2Низкое отражение P - поляризации составляет 99,8%. Высокая дисперсия этих сверхбыстрых зеркалТретий и более высокий уровниДисперсия и обеспечивает более высокую стабильность луча. Сверхбыстрые зеркала с высокой дисперсией 800 нм подходят для компенсации сжатия импульсов и дисперсии сверхбыстрых импульсов, таких как лазеры Ti: sapphire. Стандартные британские размеры и использование расплавленных кварцевых пластин, с массой поверхности 10 - 5 и плоскостью поверхности Лямбда / 10.
Общие спецификации
Дизайн длины волны DWL (nm): |
800 |
Угол падения (°): |
5 |
Диапазон длин волн (nm): |
780 - 830 |
Отражение при DWL (%): |
> 99,9% (typical, p - polarization) |
Толщина (мм): |
6.35 ±0,2 |
Тип покрытия: |
Dielectric |
Базовый: |
Fused Silica |
Спецификации покрытия: |
Ravg>99.8%, GDD = -1300 fs2@ 780 - 830nm (p-polarization) Rabs>99.9% @ 800nm (typical, p-polarization) |
GDD Specification: |
-1300fs2@ 780 - 830nm
|
Эффективная апертура (%): |
80 |
Задняя поверхность: |
Commercial Polish |
Покрытие: |
Ultrafast (780-830nm) |
Качество поверхности: |
10 - 5 |
Wedge (arcmin): |
10 ± 5 |
Irregularity (P-V) @632.8nm: |
λ/10 |
Minimum Reflectivity : |
>99.8% @780 - 830nm (p-polarization) |
Информация о продукции
Dia. (mm) |
Код продукта |
12.70 |
# 12 - 330 |
25.40 |
# 12 - 331 |
Технические данные: